■適用范圍

 

　　硅烷法多晶硅生產(chǎn)工藝。

 

　　用于還原車間反應(yīng)釜中硅污染物附著力不大的工況條件下無污染干式清洗。

 

　　■工作原理

 

　　清洗時(shí)利用上下移動和旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動高壓氣體噴吹以及特殊旋轉(zhuǎn)刷組合機(jī)構(gòu)近距離對反應(yīng)釜表面進(jìn)行噴吹和接觸式清掃達(dá)到清洗的目的。通過清洗旋轉(zhuǎn)調(diào)速機(jī)構(gòu)可滿足各工況的要求。清洗的同時(shí)采用特殊除塵凈化器一次性進(jìn)行除塵凈化。

 

　　■工藝流程

 

　　反應(yīng)釜吊裝至清洗臺上—定位—連接、啟動凈化器—啟動旋轉(zhuǎn)、上下移動機(jī)構(gòu)—高壓氣體沿壁噴吹—旋轉(zhuǎn)刷至上而下接觸移動清掃—凈化氣體置換—反應(yīng)釜吊起—檢查。

 

　　■設(shè)備組成及配置

 

　　主要由清洗平臺、氣體噴吹裝置、吸塵輸送管道、控制閥門、動力機(jī)構(gòu)、清洗機(jī)構(gòu)、各管道快速接頭、除塵凈化器、電氣控制系統(tǒng)等組成。

 

　　主要部件采用進(jìn)口零部件，確保運(yùn)行可靠穩(wěn)定、使用周期長。操作維修簡單。

 

　　■設(shè)備特點(diǎn)

 

　　1)裝置為移動單元式結(jié)構(gòu)。

 

　　2)凈化后的空氣可達(dá)到10萬級的凈化精度可完全在室內(nèi)排放。

 

　　3)采用全封閉干式的清洗方式確保對環(huán)境不出現(xiàn)二次污染。

 

　　4)電氣設(shè)計(jì)按隔爆的各項(xiàng)要求執(zhí)行、 設(shè)備設(shè)有靜電導(dǎo)出裝置。

 

　　5)控制方式可為全自動或手動控制。

 

　　6)運(yùn)行總功率小，噪聲低。